最終更新日時 : 2018/03/13 12:12:20

海外展開実績あり

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  • アリオス株式会社

    超高真空とプラズマ技術を軸に展開する機械メーカー
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    超高真空とプラズマ技術を核に、研究開発機器や小規模生産装置を製造。単結晶ダイヤモンド製造装置は、半導体グレードの極めて高純度なダイヤモンド単結晶製造が可能で、「CVD単結晶ダイヤモンド(111)自立基板」を世界で初めて製造した。超高真空技術では要素技術からチャンバーに至るまで製造可能。また、マイクロ波やRF、直流およびパルスなどを電源とした、真空や大気圧、液中でのプラズマ発生技術も有する。

    製品・技術情報

    • 単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置

      単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置

      【製品説明】 アリオス社の単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置は、 半導体グレードの単結晶ダイヤモンドを合成することができます。 ①高純度ダイヤモンドの合成 ―半導体グレードダイヤモンドの合成が可能です。 ②高効率な運転 ―球形チャンバー・特殊電極が省電力、効率的な運転を可能にし、世界最高レベルのダイヤモンドの成長速度を実現します。 ③ 電力とガス供給のみでの運転が可能 ―空冷による冷却を採用しています。 ④利便性のよい設計 ―ロードロック方式を採用し、試料を短時間で行うことが出来ます。 またビューポートを採用で、放電状態を見ながらの実験が可能で、再現性の高い実験が行えます。 【知的財産】 特願2004-266462 ダイヤモンド合成用CVD装置 特願2011-159584 ダイヤモンド基板

    • シングルラングミュアプローブ LPMシリーズ

      シングルラングミュアプローブ LPMシリーズ

      【製品説明】 当社の「シングルラングミュアプローブ LPMシリーズ」はプラズマ測定をより手軽に行えるようにしました。詳細は次の通り: 1. 成膜装置での使用が可能 ―専用処理ソフトにより高速測定を実現しました。 2. 容易なメンテナンス ―アルミナ管・プローブは容易に交換可能です。 3. 選べるラインナップ ―ストロークの長さ、先端を任意で曲げることの出来る屈曲型も、お客様の用途に合わせてお選び頂けます。 4. 各種電源にも対応 ―市販の4象限電源も使用可能です。 価格、納期についてはお問合せください。

    会社概要

    法人番号

    7012801002282

    法人名

    アリオス株式会社

    ホームページ

    http://www.arios.co.jp/

    資本金

    15,000,000 円

    従業員数

    30名 (うち常用雇用者数: 30名)

    設立年月

    1972年08月

    本社所在地:国

    日本

    本社所在地:住所

    〒196-0021 東京都昭島市武蔵野3-2-20

    業種

    一般機械器具製造業

    年間売上高

    500,000,000 円

    代表者

    有屋田 修   代表取締役

    代表電話番号

    +81-425464811

    代表FAX番号

    +81-425464814

    自由記載

    【企業の強み】
    成膜・表面処理のプラズマ・真空装置メーカーのアリオス株式会社です。
    ①高度なプラズマ技術のご提案
    ―CVD装置、各種プラズマ源(ソース)をはじめ、2014年には、大気圧プラズマ装置の製品化も実現。条件によりデモ実験承ります。
    ②炭素系素材の装置 納入実績多数
    ―特許取得の「単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置」をはじめ、炭素系素材に対応した装置の納入実績が数多くあります。
    ダイヤモンド基板に関しては、さらなる大型化と高速成長を目指して、チャンバーの大型化や大電力化に取り組んでいます。
    ③開発設計~アフターフォローまで
    ―お客様と相談しながら、最適なオーダーメイド品、特注装置のご提案ができます。
    また、お客様の環境に合わせ装置移設や既存装置の改造も承ります。
    
    【事業内容】
    □プラズマ、真空装置のj設計・製造
    □プラズマ、真空コンポーネントの設計・製造
    □要素技術開発=実験装置・機器の設計製造、シミュレーション、開発受託など
    □生産,量産装置開発=要素技術の装置化、プロセス開発の支援など
    
    【業種】
    実験,研究,生産用装置の設計および製造
    
    【製品・技術の強み】
    □単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置
    ―アリオス独自のプラズマ技術により、半導体グレードの単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能です。
    □シングル、マルチポイントラングミュアプローブ
    ―プラズマ測定でお困りなら。プラズマ密度を測定し、実験の再現性を格段に向上することができます。
    そのほか、プラズマCVD装置、大気圧プラズマ装置、スパッタ装置、MBE装置、回転導入機、ビューポートシャッター、ロードロックハッチ、RHEEDシステムなど設計・製造。
    
    【代表者メッセージ】
    アリオス株式会社は、2012年で創立40周年を迎えました。現在、大気圧プラズマや液中プラズマの開発に努めております。今後、真に先端技術の世界で通用する企業を目標にしたいと考えております。
    
    【販路開拓・海外展開に向けた社内体制】
    電子部品分野、機械分野、自動車分野、医療分野、鉄鋼・鉄製品分野、印刷分野などの研究に、お役立ちいただいています。小さな会社ですが、装置据付の現地作業やメンテナンスなど、全国どこでも対応しています。
    
    【表彰・メディア掲載】
    「Newscast」日刊工業新聞電子版
    http://biz.nikkan.co.jp/newscast/20160511-01.html#movie741
    「上智大、被災地向け水浄化装置開発-マイクロ波で殺菌」日刊工業新聞 2014年3月21日
    http://www.nikkan.co.jp/news/nkx0520140321eaad.html
     「日経ものづくり 2011年11月号」 日経BP社
    ナノ粒子と酸性水を効率生産 アリオスが液中プラズマを応用
    「輝く技術 光る企業~世界に誇る東京のものづくり~」東京都産業労働局
     http://www.kirari-tech.metro.tokyo.jp/sekai/se_arios.html 
    
    
    【証明・許認可】
    2001年 東京都 中小企業経営革新計画承認
    2004年 ISO14001認証取得
    2010年 中小企業庁 戦略的基盤技術高度化支援事業(サポイン)認定
    
    【共同研究・開発実績】
    2008年~2009年 山梨大学・山梨県警 「バリヤー放電/質量分析による爆発物検知」(文部科学省)
    2011年~2014年 北海道大学 「マイクロ波液中プラズマに関する研究」 2件 (経済産業省)
    2013年~継続中 金沢大学 「単結晶ダイヤモンドに関する研究」 (独立行政法人 科学技術振興機構)
    他、企業との共同研究開発も行っています。(非公開)
    
    【知的財産】
    特願2014-152406 酸化タングステン及び金属タングステン微粒子の製造方法とそれにより得られる微粒子
    特願2013-054705 液中プラズマ処理装置及び液中プラズマ処理方法
    特願2012-170526 試料用シート及び試料の製作方法
    特願2011-159584 ダイヤモンド基板
    特願2011-41429 金属回収方法及び金属回収装置
    特願2009-210313 液中プラズマ処理装置、金属ナノ粒子製造方法及び金属担持物製造方法
    特願2009-210312 金属担持物製造装置及び金属担持物製造方法
    特願2009-79602 シリコン基板上にSi3N4ヘテロエピタキシャルバッファ層を有する窒素シリコン基板の作製方法および装置
    特願2009-32777 酸性水製造方法及び酸性水製造装置
    特願2008-298036 ナノ粒子製造装置及びナノ粒子製造方法
    特願2007-338945 化学反応促進方法及びマイクロ波化学反応装置
    特願2007-323345 原子フラックス測定装置
    特願2007-286231 活性度制御式窒素化合物MBE成膜方法及び装置
    特願2006-346460 紫外線光源及び化学反応促進装置
    特願2006-252887 金属窒素化合物の分子線エピタキシー成膜方法及び装置
    特願2004-266462 ダイヤモンド合成用CVD装置
    特願2004-256438 窒化炭素の製造方法
    特願2003-435160 大気圧プラズマ源
    特願2003-78556 プラズマ源
    特願2001-7440 プラズマ処理装置及びそのためのプラズマ発生源
    特願2000-224773 電離真空計
    
    【他主要拠点】
    東海営業所
    
    【主要取引先:実績(国内)】
    [民間企業]機密保持のため公開していません[官庁]宇宙航空研究開発機構、情報通信研究機構、理化学研究所、科学技術振興機構、物質・材料研究機構、国立天文台、気象研究所、産業技術総合研究所(順不同)[大学]北海道大学、北海道科学大学、室蘭工業大学、東北大学、筑波大学、東京大学、東京工業大学、東京農工大学、電気通信大学、首都大学東京、早稲田大学、慶應義塾大学、上智大学、東京理科大学、工学院大学、日本女子大学、横浜国立大学、千葉工業大学、埼玉工業大学、群馬大学、新潟大学、静岡大学、金沢大学、名古屋大学、豊田工業大学、名城大学、中部大学、京都大学、同志社大学、龍谷大学、大阪大学、大阪薬科大学、近畿大学、岡山大学、岡山理科大学、広島大学、山口大学、愛媛大学、九州大学、九州工業大学、長崎総合科学大学、福岡大学、佐賀大学、宮崎大学、鹿児島大学 
    
    【主要取引先:実績(海外)】
    Chung Nam University(韓国)、Yonsei University(韓国)、Universite Blaise Pascal(フランス)など多数。
    
    【展示会出展情報】
    【2016年度出展予定】
    ・第30回ダイヤモンドシンポジウム 11/16(水)~11/18(金) 東京大学(駒場リサーチキャンパス)
    http://www.jndf.org/katsudo/symposium/sympo-30th.html
    ・真空・表面科学合同講演会 併設展示会 11/29(火)~11/30(水) 名古屋国際会議場2号館2F224会議室、3F324会議室
    http://www.vacuum-jp.org/CONFV/asvsj2016/
    ・中小企業 新ものづくり・新サービス展 11/30(水)~12/2(金) 東京ビッグサイト
    http://www.shin-monodukuri-shin-service.jp/
    ・nanotech2017国際ナノテクノロジー総合展 2/15(水)~2/17(金) 東京ビッグサイト
    http://www.nanotechexpo.jp/main/index.html
    詳細は決まり次第 http://www.arios.co.jp/blog/news2016.html にてご案内致します。
    ぜひ足をお運びいただきますようお願い申し上げます。 
    【2016年度出展報告】
    ・VACUUM2016-真空展 9/7(水)~9/9(金) パシフィコ横浜
    ・JSAP EXPO Autumn 2016 9/13(火)~9/16(金) 朱鷺メッセ
    多くの方にお立ち寄り頂きまして厚く御礼申し上げます。
    
    

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    中小機構 関東本部

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